Осаждение тонких пленок丨 Принципы и применение технологии магнетронного распыления

Что такое магнетронное напыление?

Магнетронное напыление - это процесс физического осаждения из паровой фазы (PVD), который является частьюОдин из процессов вакуумного напыленияОн широко используется в промышленных покрытиях благодаря низкой температуре осаждения, хорошему качеству пленки, однородности, быстрой скорости осаждения и способности производить большие площади однородных, плотных пленок. Он широко используется в промышленных покрытиях благодаря низкой температуре осаждения, хорошему качеству пленки, однородности, высокой скорости осаждения и способности производить большие площади однородных, плотных твердых пленок.

Название "магнетронное распыление" происходит от использования магнитного поля для управления поведением заряженных ионных частиц в процессе осаждения магнетронным распылением. Для этого процесса требуется высоковакуумная камера для создания среды с низким давлением для напыления.Начните с размещенияГаз, содержащий плазму (обычно аргон), поступает в камеру.Высокое отрицательное напряжение прикладывается между катодом и анодом, чтобы инициировать ионизацию инертного газа. Положительные ионы аргона из плазмы сталкиваются с отрицательно заряженной мишенью. В результате каждого столкновения энергичных частиц атомы с поверхности мишени (мишени) выбрасываются в вакуумную среду и попадают на поверхность подложки.Сильные магнитные поля создают высокую плотность плазмы, удерживая электроны у поверхности мишени (мишени), увеличивая скорость осаждения и предотвращая повреждение подложки от ионной бомбардировки. Большинство материалов могут быть использованы в качестве мишеней для процессов напыления, поскольку системы магнетронного распыления не требуют плавления или испарения.Исходный материал.

Преимущества магнетронного напыления

Магнетронное напылениеЛучше, чем другиеТехнология осаждения тонких пленок, поскольку она позволяет получать большое количество пленок при очень низких затратах.Он также очень подходит для материалов с высокой температурой плавления, которые невозможно испарить, и является техникой, позволяющей формировать очень плотные пленки с хорошей адгезией.

Охрана окружающей среды
Быстрая скорость осаждения
Всесторонний охват материала
Низкотемпературная среда
Высокая чистота и плотность пленки
пленка высокой вязкости, хорошее сцепление пленки с подложкой
Одновременное напыление различных материалов на подложку
Простота промышленного производства, очень однородные пленки на больших подложках

Области применения магнетронного распыления

Различные функциональные пленки: пленки со специальными функциями, такими как поглощение, передача, отражение, преломление и поляризация. Например, пленки нитрида кремния, осажденные при низкой температуре, улучшающие пропускание, используются для повышения эффективности фотоэлектрического преобразования солнечных элементов.
Внешняя отделка: полностью светоотражающие и полупрозрачные пленки, чехлы для мобильных телефонов, мышей и т.д.
В микроэлектронике он может использоваться как нетепловой метод нанесения покрытий, в основном для химического осаждения из паровой фазы (CVD), для получения больших однородных пленок.
Оптическая область: оптические пленки (например, пленки, повышающие прозрачность), стекло с низким коэффициентом пропускания, прозрачное проводящее стекло и т.д.
Обрабатывающая промышленность: Технологии нанесения покрытий на поверхность, такие как поверхностные функциональные пленки, сверхтвердые пленки и самосмазывающиеся пленки, получили значительное развитие с самого начала. Эти пленки эффективны для улучшения поверхностной твердости, вязкости соединений, износостойкости, химической стабильности при высоких температурах и срока службы изделий с покрытием.
Магнетронное распыление играет важную роль в исследовании высокотемпературных сверхпроводящих тонких пленок, ферроэлектрических тонких пленок, гигантских магниторезистивных тонких пленок, тонкопленочных светоизлучающих материалов, солнечных элементов и тонких пленок сплавов с памятью, в дополнение к вышеупомянутым областям, где оно широко используется.

Распространенные напыляемые материалы

Магнетронное распыление позволяет обрабатывать материалы:

ITO (оксид индия-олова), IGZO (оксид индия-галлия-цинка), SiO2 (диоксид кремния), Mo (молибден), Ti (титан), Al (алюминий), Au (золото), Pt (платина), Ag (серебро), W (вольфрам), Cu (медь), Co (кобальт) и другие типы металлических тонких пленок, комбинированные материалы.

Мы предлагаемМагнетронное напыление / осаждение тонких пленок / услуги по проектированию обработки микро- и наноструктурне стесняйтесь оставлять комментарии.