администратор

微纳加工 | 光刻 – Fib聚焦离子束光刻 这是一种无掩模、无电阻的扫描光刻技术。它与EBL非常 […]

Микро-нано обработка | Литография - Электронно-лучевая литография Из всех неоптических методов литографии этот является наиболее распространенным. В нем используется электронный луч вместо

Микронанофабрикация | Фотолитография - Оптическая литография Глава В контексте технологий нано- и микрофабрикации фотолитография используется для нанесения рисунка на поверхность подложки для последующего переноса на следующий элемент.

Микронанопроизводство | Травление После нанесения рисунка на резистную пленку методом фотолитографии используется химический процесс для переноса рисунка на подложку или пленку, расположенную ниже. Это называется переносом рисунка

Получение тонких пленок - эпитаксия Большинство материалов существует в аморфном, кристаллическом или поликристаллическом состоянии. Их механические, оптические, тепловые и электрические свойства также зависят от их состояния.

Химические методы позволяют создавать пленки с превосходной однородностью, покрытием и стехиометрическими соотношениями, но для этого требуются различные газы, и в некоторых случаях каждая пленка имеет свои уникальные характеристики.

Подготовка тонких пленок - PVD До сих пор наиболее распространенными физическими методами были испарение и напыление. Оба эти метода являются твердофазными, при которых исходный материал переносится на подложку один за другим in situ.