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光刻工艺-Photolithography
10年微/纳经验沉淀，我们先进的微纳加工解决方案可确保您在整个微纳制造过程中，省时，省事，省心，减少大量成本浪费以及优化整个生产的效率和效益。
什么是光刻
光刻，是一种在薄膜或基板（也被称为“晶圆”）上对零件图形化的精密加工工艺。光刻技术利用光将几何图形从光掩模（也被称为“光罩”）转移到基板上的感光（即光敏）化学光刻胶上。
我们的能力
光刻工艺
接触、接近式光刻（Contact and proximity Lithograph）
最小图形尺寸：1μm，套刻精度：±0.5μm
光刻工艺
激光直写
（Laser direct writing）
飞秒激光、双光子聚合3D打印。最小图形尺寸0.3um，套刻精度：±0.5um;
光刻工艺
步进式光刻
（Stepper Lithography）
最小图形尺寸：200 nm ，套刻精度≤0.15μm(X,Y)，曝光范围<22*22mm，支持8inch
光刻工艺
电子束光刻（Electron Beam Lithography, EBL）
最小图形尺寸：10nm，套刻精度：40nm，曝光范围 < 直径100mm
光刻工艺
扫描式光刻
（Scanning Lithography）
投影比例1:5，最小图形尺寸：0.35μm ，套刻精度≤0.15μm(X,Y)，曝光范围<22*22mm
光刻工艺
离子束光刻
（Ion beam lithography）
最小图形尺寸：1μm，套刻精度：±0.5μm
光刻材料
光刻材料
常见基板材料
硅片、玻璃、蓝宝石、柔性材料、GaAs等
光刻材料
基板尺寸
2、4、6、8英寸以及不规则小片
制作流程
1.初步报价
将你的图纸及需求发送给我们开发经理获取初步报价
2.方案确定
我们将根据图纸及需求，进行优化并确定方案及报价
3.生产及质量把控
将为您产品选择最佳的设备并全权负责您的产品符合我们的标准制作
4.按期交货
按照时间将产品交付到您手上
质量检测
检测手段
光学显微镜（Microscopy）
检测手段
轮廓仪（Profilometer）
检测手段
薄膜方阻测量（Sheet Resistance Measurement）
检测手段
霍尔测试（Hall measurement ）
我们做过的案例
应用领域
微纳应用
微透镜阵列
微纳应用
线栅偏光片
微纳应用
传感器
微纳应用
柔性电子器件
微纳应用
抗反射薄膜
微纳应用
OLED面板
微纳应用
微流体通道/芯片
微纳应用
AR光波导
我们的优势
优势
全套工艺覆盖
与国内多家实验合作，拥有100um-5nm不同加工技术储备
优势
高标准质量管控
我们秉承6sigma服务精神，选择最合适实验平台、工艺、人员、材料进行加工
优势
快速响应
从想法到落地，我们专家将提供专业意见，并持续跟踪服务
优势
省时省心
交钥匙服务，从原理实现，图纸设计，原材料采购，到成品加工
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准备好
实现您的想法了吗？
你负责设计未来，我们负责建造未来。