100개 이상의 학교와 기업이 당사를 선택했습니다.
에칭 프로세스 - 에칭
10년간의 마이크로/나노 경험을 바탕으로 한 첨단 마이크로/나노 처리 솔루션은 전체 마이크로/나노 제조 공정에서 시간, 노력 및 에너지를 절약하여 상당한 비용 낭비를 줄이고 전체 생산의 효율성과 효과를 최적화할 수 있도록 지원합니다.
에칭이란 무엇인가요?
에칭은 웨이퍼 표면에서 원치 않는 물질을 화학적 또는 물리적으로 제거하는 공정입니다. 반도체 제조의 세 가지 주요 단계는 포토리소그래피, 에칭 및 박막 증착이며, 복잡하고 미세한 회로 구조를 만들기 위해 지속적으로 순환됩니다.
당사의 역량
에칭 프로세스
반응성 이온 에칭
(RIE - 반응성 이온 에칭)
마이크로 및 나노 공정에 가장 널리 사용되고 가장 성능이 뛰어난 기술로 Si, SiO₂, SiNx 등을 에칭합니다.
에칭 프로세스
깊은 반응성 이온 에칭
(DRIE-심층 반응성 이온 에칭)
에칭 균일성 UN<3%, 딥 Si 에칭 속도 2-10um/min, Sio2 및 SiNx 에칭 속도 20-150nm/min
에칭 프로세스
집속 이온 빔 에칭
(파이버 포커스 이온 빔 에칭)
에칭, 증착, 도핑 등을 위한 재료 및 장치의 마이크로 및 나노 공정.
에칭 프로세스
이온 빔 스퍼터 에칭
(IBE-이온 빔 에칭)
에칭이 어려운 금속 또는 기타 물질의 경우
에칭 프로세스
유도/정전용량 결합 플라즈마 에칭
(ICP/CCP-인덕티브/커패시턴스 결합 플라즈마)
GaN, GaAs, InP 및 기타 재료의 에칭
에칭 프로세스
습식 에칭(습식 에칭)
2인치에서 8인치까지 무기 세척은 물론 기존의 산 및 알칼리 부식을 처리할 수 있습니다.
에칭 재료
에칭 재료
일반적인 에칭 재료
실리콘, 산화규소, 질화규소, 금속, 석영, 사파이어 및 기타 재료
에칭 재료
습식 에칭 솔루션
아세트산(H3COOH),
염산(HCl)
불산(HF)
질산(HNO3)
인산(H3PO4)
수산화칼륨(KOH)
수산화나트륨(NaOH)
황산(H2SO4)
아쿠아 레지아(3 HCl : 1 HNO3)
생산 공정
1. 초기 제안
도면과 요구 사항을 개발 관리자에게 보내 초기 견적을 받아보세요.
2. 프로그램 식별
도면과 요구 사항을 바탕으로 제안서와 견적을 최적화하고 최종 확정합니다.
3. 생산 및 품질 관리
당사는 귀사의 제품에 가장 적합한 장비를 선택하고 귀사의 제품이 당사의 표준을 충족할 수 있도록 전적으로 책임집니다.
4. 일정에 따른 배송
정시에 배송
품질 테스트
테스트 도구
광학 현미경(현미경)
테스트 도구
프로파일 미터
테스트 도구
시트 저항 측정
테스트 도구
홀 측정 홀 측정)
우리가 작업한 사례
마이크로 및 나노 구조
회절 광학 소자(DOE)
마이크로 및 나노 구조
슈퍼렌즈(메탈렌즈)
마이크로 및 나노 구조
회절 격자(선점, 광택, 기울기)
마이크로 나노 아키텍처
마이크로 렌즈 어레이
적용 분야
마이크로 및 나노 애플리케이션
마이크로 렌즈 어레이
마이크로 및 나노 애플리케이션
선형 그리드 편광판
마이크로 및 나노 애플리케이션
센서
마이크로 및 나노 애플리케이션
유연한 전자 제품
마이크로 및 나노 애플리케이션
반사 방지 필름
마이크로 및 나노 애플리케이션
OLED 패널
마이크로 및 나노 애플리케이션
미세 유체 채널/칩
마이크로 및 나노 애플리케이션
AR 광 도파관
당사의 강점
장점
전체 프로세스 범위
100um-5nm의 다양한 공정 기술을 보유한 국내의 많은 실험과 협력합니다.
장점
높은 수준의 품질 관리
6시그마 서비스 정신에 따라 가장 적합한 실험 플랫폼, 프로세스, 인력 및 재료를 선택하여 처리합니다.
장점
신속한 대응
아이디어에서 구현에 이르기까지 전문가가 전문적인 조언과 지속적인 지원을 제공합니다.추적서비스
장점
시간과 걱정 절약
원칙 실현, 도면 설계, 원자재 조달, 완제품 가공에 이르는 턴키 서비스
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