포토리소그래피

10년간의 마이크로/나노 경험을 바탕으로 한 첨단 마이크로/나노 처리 솔루션은 전체 마이크로/나노 제조 공정에서 시간, 노력 및 에너지를 절약하여 상당한 비용 낭비를 줄이고 전체 생산의 효율성과 효과를 최적화할 수 있도록 지원합니다.

100개 이상의 학교와 기업이 당사를 선택했습니다.

포토리소그래피란?

포토리소그래피는 박막 또는 기판("웨이퍼"라고도 함)에 부품을 패터닝하는 정밀 공정입니다. 포토리소그래피는 빛을 사용하여 포토마스크('포토마스크'라고도 함)에서 기판의 빛에 민감한(즉, 감광성) 화학 포토레지스트에 형상을 전송합니다.

당사의 역량

포토리소그래피

접촉 및 근접 석판 인쇄

최소 그래픽 크기: 1μm, 오버레이 정확도: ±0.5μm

포토리소그래피

레이저 직접 쓰기
(레이저 직접 쓰기)

펨토초 레이저, 2광자 중합 3D 프린팅.최소 그래픽 크기 0.3um, 오버레이 정확도: ±0.5um;

포토리소그래피

스텝퍼 리소그래피
(스텝퍼 리소그래피)

최소 그래픽 크기: 200nm, 등록 정확도 ≤ 0.15μm(X,Y), 노출 범위 <22*22mm, 지원 8인치

포토리소그래피

전자 빔 리소그래피(EBL)

최소 패턴 크기: 10nm, 등록 정확도: 40nm, 노출 범위: 직경 100mm 미만

포토리소그래피

스캐닝 리소그래피
(스캐닝 리소그래피)

투사 비율 1:5, 최소 그래픽 크기: 0.35μm, 오버레이 정확도 ≤ 0.15μm(X,Y), 노출 범위 <22*22mm

포토리소그래피

이온 빔 리소그래피
(이온 빔 리소그래피)

최소 그래픽 크기: 1μm, 오버레이 정확도: ±0.5μm

리소그래피 재료

일반적인 기판 재료

실리콘 웨이퍼, 유리, 사파이어, 플렉시블 재료, GaAs 등

리소그래피 재료

기판 크기

2, 4, 6, 8인치 및 불규칙한 소형 조각

생산 공정

1. 초기 제안

도면과 요구 사항을 개발 관리자에게 보내 초기 견적을 받아보세요.

2. 프로그램 식별

도면과 요구 사항을 바탕으로 제안서와 견적을 최적화하고 최종 확정합니다.

3. 생산 및 품질 관리

당사는 귀사의 제품에 가장 적합한 장비를 선택하고 귀사의 제품이 당사의 표준을 충족할 수 있도록 전적으로 책임집니다.

4. 일정에 따른 배송

정시에 배송

품질 테스트

테스트 도구

광학 현미경(현미경)

테스트 도구

프로파일 미터

테스트 도구

시트 저항 측정

테스트 도구

홀 측정 홀 측정)

우리가 작업한 사례

마이크로 및 나노 구조

적용 분야

마이크로 및 나노 애플리케이션

마이크로 렌즈 어레이

마이크로 및 나노 애플리케이션

선형 그리드 편광판

마이크로 및 나노 애플리케이션

센서

마이크로 및 나노 애플리케이션

유연한 전자 제품

마이크로 및 나노 애플리케이션

반사 방지 필름

마이크로 및 나노 애플리케이션

OLED 패널

마이크로 및 나노 애플리케이션

미세 유체 채널/칩

마이크로 및 나노 애플리케이션

AR 광 도파관

당사의 강점

장점

전체 프로세스 범위

100um-5nm의 다양한 공정 기술을 보유한 국내의 많은 실험과 협력합니다.

장점

높은 수준의 품질 관리

6시그마 서비스 정신에 따라 가장 적합한 실험 플랫폼, 프로세스, 인력 및 재료를 선택하여 처리합니다.

장점

신속한 대응

아이디어에서 구현에 이르기까지 전문가가 전문적인 조언과 지속적인 지원을 제공합니다.추적서비스

장점

시간과 걱정 절약

원칙 실현, 도면 설계, 원자재 조달, 완제품 가공에 이르는 턴키 서비스

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미래를 설계하면 저희가 구축합니다.

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