나노 임프린팅(NIL)

마이크로 및 나노 공정과 나노 임프린팅 기술 분야에서 10년 이상의 경험을 보유한 AccSci는 공정에서 시간, 문제 및 노력을 절약하여 비용이 많이 드는 낭비를 줄이고 전체 생산 공정의 효율성과 효과를 최적화할 수 있습니다.

100개 이상의 학교와 기업이 당사를 선택했습니다.

나노임프린팅(Nil)이란 무엇인가요?

나노임프린트 리소그래피(NIL)는 나노 크기의 패턴을 생성하기 위한 마이크로 및 나노 공정입니다.폴리머 구조를 처리하는 가장 일반적인 방법입니다. 갖는저렴한 비용, ,짧은 공사 기간, ,높은 생산성, ,고해상도이 제품의 장점은 다음과 같습니다.

성숙하고 일반적으로 사용되는 주요 나노 임프린팅 기술 프로세스는 다음과 같습니다.열 나노 임프린팅(T-NIL) 기술, ,UV-NIL(자외선 경화 각인) 기술.Micro연락처 인쇄(μCP).

당사의 역량

프로세스

리소그래피

전자 빔 리소그래피(EBL)UV 리소그래피근접/접촉 리소그래피, 스텝퍼 리소그래피 등

프로세스

2광자 3D 프린팅(2광자 중합)

프로세스

에칭(에칭)

집속 이온 빔 에칭깊은 반응성 이온 에칭, 유도 결합 플라즈마 에칭, 이온 빔 스퍼터링 에칭 등.

프로세스

나노 임프린팅(나노 임프린트 리소그래피)

나노 열 엠보싱, UV 경화 엠보싱, 마이크로 접촉 인쇄(소프트 에칭)

프로세스

코팅

마그네트론 스퍼터링원자층 증착.이온 빔 스퍼터링, ,플라즈마 화학 기상 증착 등

프로세스

일렉트로포밍(LIGA)

나노 각인 소재

리소그래피 재료

각인된 스텐실 소재

실리콘 NIL 스탬프, 용융 실리카 NIL 스탬프, 니켈 SHIM, 폴리머 NIL 스탬프, PDMS NIL 스탬프

나노 각인 소재

기판 재료

사파이어, 석영, 실리콘(Si), 니켈(Ni), 폴리디메틸실록산(PDMS), 갈륨 비소(GaAs), 인화 인듐(InP), 질화 갈륨(GaN), 티타늄(Ti), 금(Au), 폴리에틸렌(PE) 및 기타 기판

나노 임프린팅의 경우

마이크로 및 나노 구조

생산 공정

1. 초기 제안

도면과 요구 사항을 개발 관리자에게 보내 초기 견적을 받아보세요.

2. 프로그램 식별

도면과 요구 사항을 바탕으로 제안서와 견적을 최적화하고 최종 확정합니다.

3. 생산 및 품질 관리

당사는 귀사의 제품에 가장 적합한 장비를 선택하고 귀사의 제품이 당사의 표준을 충족할 수 있도록 전적으로 책임집니다.

4. 일정에 따른 배송

정시에 배송

특성화 테스트

테스트 도구

광학 현미경(현미경)

테스트 도구

프로파일 미터

테스트 도구

시트 저항 측정

테스트 도구

홀 측정 홀 측정)

당사의 강점

장점

전체 프로세스 범위

100um-5nm의 다양한 공정 기술을 보유한 국내의 많은 실험과 협력합니다.

장점

높은 수준의 품질 관리

6시그마 서비스 정신에 따라 가장 적합한 실험 플랫폼, 프로세스, 인력 및 재료를 선택하여 처리합니다.

장점

신속한 대응

아이디어에서 구현에 이르기까지 전문가가 전문적인 조언과 지속적인 지원을 제공합니다.추적서비스

장점

시간과 걱정 절약

원칙 실현, 도면 설계, 원자재 조달, 완제품 가공에 이르는 턴키 서비스

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