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フォトリソグラフィー
10年にわたるマイクロ/ナノの経験を持つ当社の高度なマイクロ/ナノ処理ソリューションは、マイクロ/ナノの製造プロセス全体を通して時間、労力、エネルギーを確実に節約し、大幅なコストの無駄を削減し、生産全体の効率と効果を最適化することができます。
フォトリソグラフィーとは
フォトリソグラフィーは、薄膜や基板（ウェハー）上に部品をパターン化する精密なプロセスです。フォトリソグラフィーは、光を用いて、フォトマスク（「フォトマスク」とも呼ばれる）から、基板上の感光性（すなわち感光性）化学フォトレジストに形状を転写する。
私たちの能力
フォトリソグラフィー
コンタクトと近接リトグラフ
最小グラフィックサイズ：1μm、オーバーレイ精度：±0.5μm
フォトリソグラフィー
レーザーダイレクトライティング
(レーザー直接描画)
フェムトセカンドレーザー、2光子重合 3Dプリンター。最小グラフィックサイズ0.3um、オーバーレイ精度：±0.5um。
フォトリソグラフィー
ステッパーリソグラフィー
(ステッパーリソグラフィー)
最小グラフィックサイズ：200nm、見当精度≤0.15μm（X,Y）、露光範囲<22*22mm、サポート8インチ
フォトリソグラフィー
電子ビーム描画装置（EBL: Electron Beam Lithography）
最小パターンサイズ：10nm、レジストレーション精度：40nm、露光範囲＜直径100mm
フォトリソグラフィー
スキャニングリソグラフィー
(スキャニングリソグラフィー)
投影比率1：5、最小グラフィックサイズ：0.35μm、オーバーレイ精度≦0.15μm（X、Y）、露光範囲<22*22mm
フォトリソグラフィー
イオンビームリソグラフィー
(イオンビームリソグラフィー)
最小グラフィックサイズ：1μm、オーバーレイ精度：±0.5μm
リトグラフ材料
リトグラフ材料
一般的な基板材料
シリコンウエハー、ガラス、サファイア、フレキシブル材料、GaAsなど。
リトグラフ材料
基板サイズ
2、4、6、8インチ、不定形小片
生産工程
1.初回特典
図面やご要望を開発担当者にお送りいただき、初期見積りを行います。
2.プログラムの識別
図面や要望をもとに、提案書や見積書を最適化し、最終決定します
3.生産・品質管理
お客様の製品に最適な機器を選定し、当社の基準を満たすよう全責任を負います
4.予定通りの納品
納期を守ってお届けします
品質テスト
テストツール
光学顕微鏡（マイクロスコープ）
テストツール
プロフィロメーター
テストツール
シート抵抗の測定
テストツール
ホール測定 ホール測定)
これまでに担当したケース
マイクロ・ナノ構造
回折光学素子(DOE)
マイクロ・ナノ構造
スーパーレンズ（METALENSES）
マイクロ・ナノ構造
回折格子（ラインポイント、シャイン、チルト）
マイクロナノアーキテクチャ
マイクロレンズアレイ
応用分野
マイクロ・ナノアプリケーション
マイクロレンズアレイ
マイクロ・ナノアプリケーション
リニアグリッド偏光板
マイクロ・ナノアプリケーション
センサー
マイクロ・ナノアプリケーション
フレキシブルエレクトロニクス
マイクロ・ナノアプリケーション
反射防止フィルム
マイクロ・ナノアプリケーション
有機ELパネル
マイクロ・ナノアプリケーション
マイクロ流体チャンネル/チップ
マイクロ・ナノアプリケーション
AR光導波路
当社の強み
メリット
フルプロセスカバレッジ
100um～5nmのさまざまな加工技術を蓄積し、国内の多くの実験と連携。
メリット
高水準の品質管理
6sigmaサービスの精神に基づき、最適な実験プラットフォーム、プロセス、人材、材料を選択し、加工を行う
メリット
迅速な対応
アイデアから実装まで、専門家が専門的なアドバイスを提供し、継続的にトラッキングサービス内容
メリット
時間や心配を減らす
原理の実現、図面設計、原料調達から製品加工までのターンキーサービス。
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