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微纳加工 | 光刻 – 纳米压印光刻篇 纳米压印光刻 Nanoimprint Lithography (NIL)描述起来非常简单。模具（印章）⾸先在其上构造有表面浮雕特征，然后将其压在聚合物材料上以转移图案。 […]

マイクロ・ナノ加工｜リソグラフィ - Fib集束イオンビームリソグラフィ マスクレス、レジストレスのスキャニングリソグラフィ技術です。EBLとよく似ていますが、パターンの描画に電子ビームではなくイオンビームを使用する点が異なります。さらに、ビームはレジストを露光するために使用されるのではなく、ビームが直接スパッタリングして基板（またはフィルム）を除去する。

マイクロ・ナノ加工｜リソグラフィ - 電子線リソグラフィ 非光学リソグラフィ法の中で、最も一般的に使用されているのが電子線リソグラフィである。フォトンではなく電子ビームを使用してレジストを露光し、化学変化を誘発する。しかし、フォトリソグラフィとは異なり、マスクはなく、ビームはレジストを照射しない。

マイクロ・ナノ加工｜リソグラフィ - 光リソグラフィの章 ナノ・マイクロ加工技術において、リソグラフィは、パターンを基板表面に塗布し、その後下の基板に転写するために使用される。 光リソグラフィは、光を用いてマスター（フォトマスク）から基板上にパターンを転写する。このプロセスは、従来のネガ写真複写とよく似ている。感光性ポリ

マイクロ・ナノ加工｜エッチング フォトリソグラフィでレジスト膜をパターン化したら、化学的なプロセスでパターンを下の基板やフィルムに転写する。これがパターン転写工程である。FIBリソグラフィーのように、レジストを用いずに直接パターンをエッチングする場合や、パターン化したレジストを溶解して基板や膜のみにパターンを転写する剥離工程など、例外もある。

薄膜作製 - エピタキシー ほとんどの材料は、アモルファス、結晶、多結晶の状態で存在する。その機械的、光学的、熱的、電気的特性も状態によって異なる。 例えば、カーボンはアモルファス状態では黒い粉であるが、結晶状態ではダイヤモンドであり、高い屈折率を持つ光学的に透明な固体である。アモルファス状態

化学的方法は、均一性、被覆率、化学量論に優れた膜を作ることができるが、膜の種類ごとに異なるガスと、時には異なるチャンバーを必要とする。最も一般的な化学的方法は化学気相成長法（CVD）である。 この手法では、プラズマ・プリカーサーをチャンバー内に導入し、基板を以下の温度まで加熱する。

薄膜作製 - PVD これまで、最も一般的な物理的方法は蒸着とスパッタリングであった。どちらも、ソース材料をその場で一つずつ基板上に転写する相法である。これらはしばしば物理的気相成長法（PVD）と呼ばれます。 PVDは通常、周囲のガス種の干渉を最小限に抑えるため、高真空チャンバー内で行われる。 蒸気