マイクロ・ナノ加工｜リソグラフィ - Fib集束イオンビームリソグラフィ マスクレス、レジストレスのスキャニングリソグラフィ技術です。EBLとよく似ていますが、パターンの描画に電子ビームではなくイオンビームを使用する点が異なります。また、ビームはレジストを露光するために使用されるのではなく、ビームが直接スパッタリングし、基板（または膜 [...] ）を除去する。
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マイクロ・ナノ加工｜リソグラフィ - 電子線リソグラフィ 非光学リソグラフィ法の中で、最も一般的に使用されているのが電子線リソグラフィである。フォトンではなく電子ビームを使用してレジストを露光し、化学変化を誘発する。しかし、フォトリソグラフィとは異なり、マスクはなく、ビームはレジストを照射しない。
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マイクロ・ナノ加工｜リソグラフィ - 光リソグラフィの章 ナノ・マイクロ加工技術において、リソグラフィは、パターンを基板表面に塗布し、その後下の基板に転写するために使用される。 光リソグラフィは、光を用いてマスター（フォトマスク）から基板上にパターンを転写する。このプロセスは、従来のネガ写真複写とよく似ている。感光性ポリ
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マイクロ・ナノ加工｜エッチング フォトリソグラフィでレジスト膜をパターン化したら、化学的なプロセスでパターンを下の基板やフィルムに転写する。これがパターン転写工程である。FIBリソグラフィーのように、レジストを用いずに直接パターンをエッチングする場合や、パターン化したレジストを溶解して基板や膜のみにパターンを転写する剥離工程など、例外もある。
薄膜作製 - エピタキシー ほとんどの材料は、アモルファス、結晶、多結晶の状態で存在する。その機械的、光学的、熱的、電気的特性も状態によって異なる。 例えば、カーボンはアモルファス状態では黒い粉であるが、結晶状態ではダイヤモンドであり、高い屈折率を持つ光学的に透明な固体である。アモルファス状態
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化学的方法は、均一性、被覆率、化学量論に優れた膜を作ることができるが、膜の種類ごとに異なるガスと、時には異なるチャンバーを必要とする。最も一般的な化学的方法は化学気相成長法（CVD）である。 この手法では、プラズマ・プリカーサーをチャンバー内に導入し、基板を以下の温度まで加熱する。
薄膜作製 - PVD これまで、最も一般的な物理的方法は蒸着とスパッタリングであった。どちらも、ソース材料をその場で一つずつ基板上に転写する相法である。これらはしばしば物理的気相成長法（PVD）と呼ばれます。 PVDは通常、周囲のガス種の干渉を最小限に抑えるため、高真空チャンバー内で行われる。 蒸気
蛍光イメージングシステム応用例の説明2 多機能振動ミラー走査型蛍光イメージングシステムは、レーザー精密走査、時間分解取得、画像処理技術を利用して、マイクロ・ナノスケールの空間で物質の光物性を取得する一種の高精度装置であり、現在、世界最先端の時間分解蛍光分析装置の一つである。主に半導体の研究に用いられている。
蛍光イメージングシステム応用例説明 多機能振動ミラー走査型蛍光イメージングシステムは、レーザー精密走査、時間分解取得と画像処理技術を使用して、マイクロ-ナノスケールの高精度計測器の空間内の材料の光物性を得るために、現在、世界で最も先進的な時間分解蛍光分析装置の一つです。主に半導体マイクロ
フェムト秒超高速分光法 超高速分光法は物質中の励起状態プロセスの研究によく応用される。原子核の運動、化学結合のねじれなど、一般的な分子原子で起こる物理効果のほとんどはフェムト秒からピコ秒の時間領域で起こり、電荷の分離と移動、エネルギー移動などはフェムト秒からナノ秒の領域で起こり、発光物質の蛍光はフェムト秒からナノ秒の領域で起こる。
