RF MEMSマイクロ・ナノファブリケーション
マイクロ・ナノ加工
携帯端末が発達した今日、MEMS技術を用いたRFデバイスは、低損失、小型、低コストのデバイスという現代のRFマイクロ波の要件を満たすために、より簡単に統合でき、柔軟性があります。このため、当社では、お客様の製品検証を最短で実現するために、マイクロ・ナノ加工プロトタイピングサービスを開始しました。
描画の最適化、プロセス定義
これを最適に実現するために、まずお客様の図面を評価し、図面の変更案を提供し、加工に適したプロセスや機器を推奨します。また、お客様のプライバシーを絶対的に保護するため、納品完了後、お客様のローカルコンピューターにある図面ファイルの記録を破棄することをお約束します。
構造試験特性評価報告書
納品物の品質を保証するために、完成品の品質報告書（通常は光学検査報告書）を提供します。しかし、私たちはさらに、完成品の表面幾何学的パラメータと機械的特性の測定も行います。これは、部品の3次元寸法、輪郭、膜厚、表面粗さ、引張、透過特性、耐久性などのテストに及びます。
マイクロ・ナノ構造
構造単位
インダクタ
構造単位
フェーズシフター
構造単位
マッチングネットワーク
構造単位
バリアブルキャパシタンス
構造単位
共振器
構造単位
アンテナ
構造単位
スイッチ類
構造単位
フィルター
私たちの能力
プロセス
リトグラフ
電子ビーム描画装置（EBL: Electron Beam Lithography）UVリソグラフィープロキシミティ/コンタクトリソグラフィ、ステッパーリソグラフィなど。
プロセス
二光子重合法3Dプリンティング（TPP)
プロセス
エッチング(エッチング)
集束イオンビームエッチング、深部反応性イオンエッチング、誘導結合プラズマエッチング、イオンビームスパッタリングエッチングなど。
プロセス
ナノインプリント(NIL)
ナノサーマルエンボス、UV硬化型エンボス、マイクロコンタクトプリンティング（ソフトエッチング）
プロセス
コーティング
マグネトロンスパッタリングatomic layer depositionの略。イオンビームスパッタリング, ,プラズマ化学気相成長法 など
プロセス
エレクトロフォーミング（LIGA）
テストキャラクタリゼーション
テストツール
光学顕微鏡（マイクロスコープ）
テストツール
プロフィロメーター
テストツール
シート抵抗の測定
テストツール
ホール測定 ホール測定)
応用分野
マイクロ・ナノアプリケーション
衛星通信
マイクロ・ナノアプリケーション
モノのインターネット
マイクロ・ナノアプリケーション
ナビゲーション端末
マイクロ・ナノアプリケーション
スマートフォン
リンク集:: 以下のとおりです。Litho_wikiフォーラムでは、フォトリソグラフィーとフォトレジストの使用に関する専門的な情報を集めています。