ソリューション

マイクロ・ナノ加工｜電子ビームリソグラフィの原理 電子ビームリソグラフィは、光学技術で可能なよりも小さなフィーチャーサイズのコンポーネントを製造できるという利点がある。コンポーネントのフィーチャーサイズは、基本的に使用する光の波長によって制限されます。電子ビームリソグラフィーで使用される電子ビームのスポットサイズは、アプリケーションによって数ナノメートルから数百ナノメートルの範囲に及ぶ。電子

マイクロ・ナノ加工｜3D光学構造 グレイスケールリソグラフィー グレイスケール加工技術により、様々な用途に多様なマイクロ光学素子を使用することができます。 回折および屈折マイクロ光学素子は、輪郭フォトリソグラフィーとグラフィックエッチングおよび転写技術を用いて加工することができます。より一般的に使用されるマイクロ光学素子には、ビーム分割回折光学素子やビームフォーミング回折光学素子があります、

マイクロナノプロセッシング｜回折光学素子入門 回折光学素子（DOE）とは、等級mに対して正確な角度θmで光線を偏向させる特殊な光学部品であり、次の式で表される。

マイクロ・ナノ加工｜基板｜光電子デバイスでよく使われる基板 シリコンは、集積回路の標準的な材料として使用されており、世界で最も広く研究されている材料の一つです。この材料は、高温半導体としての使用に適しており、成長しやすい酸化物絶縁体である。これらの特性は、現在の産業インフラと工具のすべてと相まって、集積シリコン光

マイクロナノ加工｜電子ペーパーマイクロカップマイクロコンパートメント型構造準備 現在のエネルギー危機のために、精力的に省エネと排出削減技術の経済モデルを開発することが急務であり、環境に優しく、省エネの新世代のハイテクディスプレイ製品になることが期待されている。電子情報産業がますます急速に発展し、集積回路、コンピュータ、フラットパネル・ディスプレイ産業が相次いで発展している。