Proceso de grabado - Grabado
¿Qué es el grabado?
Los tres pasos principales en la fabricación de semiconductores son la fotolitografía, el grabado y la deposición de películas finas, que se suceden continuamente para crear estructuras de circuitos complejas y finas.
Nuestras capacidades
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Proceso de grabado
Grabado iónico reactivo
(RIE - Grabado iónico reactivo)
La tecnología más utilizada y más capaz para el micro y nanoprocesamiento, grabado de Si, SiO₂, SiNx, etc.
Proceso de grabado
Grabado iónico reactivo profundo
(DRIE: grabado iónico reactivo profundo)
Uniformidad de grabado UN<3%; velocidad de grabado de Si profundo 2-10um/min; velocidad de grabado de Sio2 y SiNx 20-150nm/min
Proceso de grabado
Grabado por haz de iones focalizado
(Grabado por haz de iones focalizados FIBE)
Micro y nanoprocesamiento de materiales y dispositivos para grabado, deposición, dopaje, etc.
Proceso de grabado
Grabado por bombardeo iónico
(Grabado por haz de iones)
Para metales u otras sustancias difíciles de grabar
Proceso de grabado
Grabado por plasma con acoplamiento inductivo/capacitivo
(ICP/CCP-Inductively/capacitance Coupled Plasma)
Grabado de GaN, GaAs, InP y otros materiales
Proceso de grabado
Grabado húmedo
Puede manejar la limpieza inorgánica e inorgánica de 2inc a 8inc, así como la corrosión ácida y alcalina convencional
Materiales de grabado
Materiales de grabado
Materiales de grabado habituales
Materiales de grabado
Soluciones de grabado húmedo
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Proceso de producción
1. Oferta inicial
Envíe sus planos y requisitos a nuestro responsable de desarrollo para obtener un presupuesto inicial
2. Identificación del programa
Basándonos en los planos y los requisitos, optimizaremos y finalizaremos la propuesta y el presupuesto
3. Producción y control de calidad
Seleccionaremos el mejor equipo para su producto y asumiremos toda la responsabilidad de que su producto cumpla nuestras normas
4. Entrega en el plazo previsto
Entrega puntual
Pruebas de calidad
Herramientas de prueba
Microscopía óptica (Microscopía)
Herramientas de prueba
Perfilómetro
Herramientas de prueba
Medición de la resistencia de la chapa
Herramientas de prueba
Medición Hall Medición Hall)
Casos en los que hemos trabajado
Microestructuras y nanoestructuras
Elementos ópticos difractivos (DOE)
Microestructuras y nanoestructuras
Superlentes (METALENTES)
Microestructuras y nanoestructuras
Rejillas de difracción (punto de línea, brillo, inclinación)
Arquitectura micro-nano
Conjuntos de microlentes
Ámbitos de aplicación
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Micro y nanoaplicaciones
Conjuntos de microlentes
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Micro y nanoaplicaciones
Polarizadores lineales de rejilla
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Micro y nanoaplicaciones
Sensores
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Micro y nanoaplicaciones
Electrónica flexible
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Micro y nanoaplicaciones
Película antirreflectante
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Micro y nanoaplicaciones
Paneles OLED
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Micro y nanoaplicaciones
Canales/chips microfluídicos
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Micro y nanoaplicaciones
Guía de ondas óptica AR
Nuestros puntos fuertes
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Cobertura total del proceso
Cooperación con muchos experimentos nacionales, con una reserva de diferentes tecnologías de procesamiento de 100um-5nm.
Altos niveles de control de calidad
Con el espíritu del servicio 6sigma, seleccionamos la plataforma experimental, el proceso, el personal y los materiales más adecuados para el procesamiento
Respuesta rápida
Desde la idea hasta la puesta en práctica, nuestros expertos proporcionarán asesoramiento especializado y continuado.SeguimientoServicios
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