Micro y nanoprocesamiento | Introducción a los procesos de grabado en seco

Las técnicas de grabado se dividen en: grabado húmedo y grabado seco

El grabado húmedo se divide en: grabado químico y grabado electrolítico

El mordentado en seco se divide en: mordentado por plasma, mordentado por pulverización de haces de iones, mordentado por iones reactivos

El grabado en seco es una técnica para grabar películas finas con la naturaleza químicamente más activa del plasma.

En función del mecanismo de grabado mediante iones, existen tres tipos de grabado en seco:Aguafuerte físico, aguafuerte químico, aguafuerte físico-químico.El mordentado físico, también conocido como mordentado por pulverización catódica, es altamente direccional y puede ser anisotrópico, pero no puede ser selectivo. El mordentado químico utiliza grupos atómicos químicamente activos en el plasma para reaccionar químicamente con el material que se está grabando, logrando así el propósito del mordentado. Como el núcleo del mordentado sigue siendo una reacción química, el efecto del mordentado es algo similar al del mordentado húmedo, con mejor selectividad pero menos anisotropía.

Comparación de los mecanismos de mordentado en seco por plasma y de los parámetros de mordentado

Parámetros de grabadoGrabado físico - Corte vertical del campo de RFGrabado químico - Hoja paralela de campo RFGrabado físico y químico - Hoja vertical de campo RF
Mecanismo de grabadoPulverización física de ionesQuímica de los elementos reactivosPulverización iónica y química de elementos reactivos
Perfil de la pared lateralAnisótropoIsótropoAnisótropo
Elija entre más deElevación baja/difícil (1:1)Muy alto (500:1)Alta (de 5:1 a 100:1)
Velocidad de grabadoAltalentoModerado
Control del ancho de líneaBienMuy pobreMuy buena

Según el método de generación del plasma, se clasifican el plasma de acoplamiento inductivo ICP, el plasma de acoplamiento capacitivo CCP y el plasma de resonancia de ciclotrón electrónico de microondas ECR. resonancia ciclotrónica).

 

Lectura ampliada.

 

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