纳米压印光刻 Nanoimprint Lithography (NIL)描述起来非常简单。模具（印章）⾸先在其上构造有表面浮雕特征，然后将其压在聚合物材料上以转移图案。聚合物材料通常是牺牲抗蚀剂膜，其用作掩模以蚀刻下面的基板或膜。

有几种不同的NIL方法。热压NIL使用升高的温度来软化聚合物薄膜，使其在表面浮雕周围流动填充，待印章冷却到室温后将其移除。这也称为热压印光刻。

另一种变体使用紫外光来交联和硬化聚合物薄膜。使用柔软的液体薄膜，在压印过程中，薄膜暴露在紫外线下。这也可以与高温结合使用。UV-NIL要求基板和/或印模对UV波⻓（例如⽯英）是透明的。

NIL的主要优点是过程极其简单。没有昂贵的光学器件、超高真空室、电子束或准分子激光器。一旦通过光刻将抗蚀剂膜图案化，就使用化学工艺将该图案转移到下面的基板或膜中。这就是模式转移过程。特征尺⼨也没有基本的分辨率限制。